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三氟化氮

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化学式:NF3


CAS登录号:7783-54-2


外观:无色无味


分子量:71.01


纯度:>99.99%


溶解性:不溶于水。


危险性类别:第2.3类有毒气体


三氟化氮购置认准k8凯发化工,四川三氟化氮供应商直销,三氟化氮价格优质。


其他种种纯度、钢瓶包装均有售卖,可凭据客户的要求配置。


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三氟化氮气体具体参数及需求可联系客服人员咨询,028-84791130!




我公司配有高精检测设备,确保产品的质量。


三氟化氮质量检测陈诉




气体说明

三氟化氮(nitrogen trifluoride)化学式NF?,在常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体,是一种强氧化剂。三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体,在离子蚀刻时裂解为活性氟离子,这些氟离子对硅和钨化合物,高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性(对氧化硅和硅),它在蚀刻时,在蚀刻物外貌不留任何残留物,是很是良好的清洗剂,同时在芯片制造、高能激光器方面获得了大量的运用。


用途
三氟化氮主要用途是用作氟化氢-氟化气高能化学激光器的氟源,在h2-O2 与F2之间反映能的有效部门(约25%)可以以激光辐射释放出,所 HF-OF激光器是化学激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体,对硅和氮化硅蚀刻,接纳三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与氧气的混淆气体有更高的蚀刻速率和选择性,而且对外貌无污染,尤其是在厚度小于1.5um的集成电路质料的蚀刻中,三氟化氮具有很是优异的蚀刻速率和选择性,在被蚀刻物外貌不留任何残留物,同时也是很是良好的清洗剂。随着纳米技术的发展和电子工业大规模的发展技术,它的需求量将日益增加。



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用途
三氟化氮主要用途是用作氟化氢-氟化气高能化学激光器的氟源,在h2-O2 与F2之间反映能的有效部门(约25%)可以以激光辐射释放出,所 HF-OF激光器是化学激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体,对硅和氮化硅蚀刻,接纳三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与氧气的混淆气体有更高的蚀刻速率和选择性,而且对外貌无污染,尤其是在厚度小于1.5um的集成电路质料的蚀刻中,三氟化氮具有很是优异的蚀刻速率和选择性,在被蚀刻物外貌不留任何残留物,同时也是很是良好的清洗剂。随着纳米技术的发展和电子工业大规模的发展技术,它的需求量将日益增加。



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